IMEC surađuje s Mitsui Chemical -om kako bi promovirao komercijalizaciju filmova EUV Carbon nanotube Photomask
Belgijski istraživački centar za mikroelektroniku (IMEC) objavio je u prosincu da je potpisao sporazum o strateškoj suradnji s Japanskim Mitsui Chemical iz Japana kako bi zajedno promovirao komercijalizaciju tehnologije EUV Carbon Nanotube Photomask Film (Pellicle).Prema sporazumu, Mitsui Chemical integrirat će tehnologiju čestica IMEC-ove ugljične nanocjevčice (CNT) s tehnologijom tankih filmova povezane s Mitsui Chemical, s ciljem uvođenja ovog novog proizvoda u velike EUV sustave između 2025. i 2026. godine.
Prema službenom uvođenju IMEC -a, film PhotoMask prašina (pellicle) koristi se za zaštitu čistoće fotomasa, zahtijevajući visoku propusnost i dugi životni vijek.Čestice ugljične nanocjevčice (CNT) mogu poboljšati performanse ultra tankih filmova tijekom izloženosti EUV-u (ekstremne ultraljubičastog) izloženosti, s izuzetno visokom EUV prijenosom (≥ 94%), izuzetno niskom refleksom EUV-a i minimalnim optičkim utjecajem, a sve su to ključne karakteristikeza postizanje visokih proizvodnih kapaciteta u naprednoj proizvodnji poluvodiča.Pored toga, čestice ugljikovih nanocjevčica mogu izdržati EUV snagu preko 1KW, zadovoljavajući potrebe budućih strojeva za litografiju sljedeće generacije.Ova je tehnologija pobudila snažno zanimanje za industriju, tako da će obje strane zajednički razviti čestice ugljikovih nanocjevčica u industriji kako bi zadovoljile potražnju na tržištu.
Princip pelicle otpornog na prašinu, iz Mitsui Chemical
Steven Scheer, viši potpredsjednik IMEC -a, izjavio je da je organizacija dugo podržavala poluvodički ekosustav u unapređenju puta tehnologije litografije.Od 2015. godine, IMEC surađuje s lancem opskrbe na razvoju inovativnih dizajna tankih filmova temeljenih na ugljikovim nanocjevčicama (CNTS) za naprednu tehnologiju EUV litografije.Rekao je: "Vjerujemo da će dublje razumijevanje metrologije, karakterizacije, svojstava i svojstava filmova nanocjevčice od ugljika ubrzati razvoj kemijskih proizvoda Mitsui. Nadamo se da ćemo zajednički staviti čestice ugljikovih nanocjevčica u proizvodnju za buduće generacije tehnologije litografije EUV. "
Steven Scheer, viši potpredsjednik IMEC -a, izjavio je da je organizacija dugo podržavala poluvodički ekosustav u unapređenju puta tehnologije litografije.Od 2015. godine, IMEC surađuje s lancem opskrbe na razvoju inovativnih dizajna tankih filmova temeljenih na ugljikovim nanocjevčicama (CNTS) za naprednu tehnologiju EUV litografije.Rekao je: "Vjerujemo da će dublje razumijevanje metrologije, karakterizacije, svojstava i svojstava filmova nanocjevčice od ugljika ubrzati razvoj kemijskih proizvoda Mitsui. Nadamo se da ćemo zajednički staviti čestice ugljikovih nanocjevčica u proizvodnju za buduće generacije tehnologije litografije EUV. "
Prema mapi cesta litografske industrije, sljedeća generacija ASML 0,33NA (numerički otvor) EUV litografski sustavi podržat će izvore svjetlosti s razinom snage od 600 W ili više od 2025. do 2026. U to će vrijeme biti i novi fotomask koji se nalazi na prašini od prašine također komercijalizirani, što se može koristiti za masovnu proizvodnju čipova s procesima 2nm i ispod.